施耐德電機推出全新AI-Ready資料中心解決方案，期望助產業更永續地迎接人工智慧（AI）新時代。（攝影：莊閔茜）
AI晶片技術快速演進，為回應AI浪潮帶來的用電挑戰，施耐德電機推出全新AI-Ready資料中心解決方案，橫跨電力架構、液冷散熱、數位孿生與碳排監控管理，強調「沒有一體適用的方案」，從設計到營運端到端部署量身訂製，助力2030年資料中心減少17%能源使用。
生成式AI應用爆發，散熱與能源效率成關鍵課題
隨著AI發展，AI已經融入日常中，變成生活一部分，施耐德電機資料中心暨網路部門執行副總裁夏爾瑪（Pankaj Sharma）認為，生成式AI發展跟應用遠超過以往技術，使用者一下子就達到一億用戶，這是全球資訊網（www）花了7年才達到的里程。
夏爾瑪預估，全球2030年網際網路使用者將高達75億人，AI經濟將成長到新台幣16兆元，勢必將帶來更大規模的大數據資料庫跟數位設備使用，以及更高的用電量，因此冷卻技術就是AI重要基礎設施，沒有好好散熱，設備便無法順利運作。
他指出，AI提高用電量，另一方面AI也是一個驅動能源轉型的動力，為相輔相成的雙向動能。
為應變科技日新月異的AI商機，施耐德電機也積極布局資料中心市場，與輝達（NVIDIA）、冷卻專家Motivair等供應鏈合作夥伴緊密合作，掌握AI技術的變動。
施耐德電機資料中心暨網路部門資深副總裁錢德（Nirupa Chander）表示，透過從供電、伺服器與資料中心電力分配設計，能為資料中心全盤規劃永續策略。
錢德指出，透過永續策略，可讓資料中心到2030年耗能減少17%。預計2026～2030 年的基礎設施改善中，AI基礎設施損耗可減少12%，2030年可節省3.6%太瓦時能源。
施耐德盼攜手產業打造高效、永續、新世代機房。（攝影：莊閔茜）
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AI技術變化迅速，資料中心設計、產業協作缺一不可
AI技術每年都有突破，輝達（NVIDIA）加速資料中心總監哈里斯（Dion Harris）表示，所需的設施與設計都需要調整，包括電力負載能力、設計工程、冷卻技術等都會有差異，因此無法單打獨鬥，要跟產業鏈一同討論未來的趨勢變化，其中就包括氣冷液冷技術、直流電與交流電技術，「光靠自己無法擬定5年成長路徑圖。」
其中在AI-Ready資料中心端到端方案中，以軟體服務及數位孿生為核心，協助資料中心從設計、建置到營運全面升級。施耐德指出，透過旗下的ETAP電力模擬平台，可於機房規劃初期預測能源負載與潛在風險，提升電力配置與系統設計效率。該模擬技術也已整合至NVIDIA Omniverse平台。
施耐德電機也透過併購美國冷卻技術廠商Motivair，擴展從氣冷、液冷到氣液混合的多元散熱模式選擇，滿足不同場域與機櫃配置需求。
哈里斯表示，資料中心的設計是協助整體生態系統掌握AI先機，在AI模型迅速變化與擴張的當下，前期規劃尤為關鍵，提供客戶實用工具並跟上AI步調。
